リソグラフィは集積回路製造の基本であり、大量の計算オーバーヘッドを必要とします。機械学習 (ML) ベースのリソグラフィ モデルの進歩により、製造プロセスの費用と能力の間のトレードオフが緩和されます。ただし、以前のすべての方法は、リソグラフィ システムを画像から画像へのブラック ボックス マッピングと見なし、ネットワーク パラメーターを使用して大量のマスクから空中またはマスクからレジストへの画像ペアからローテ マッピングによって学習するため、一般化機能が低下します。このホワイト ペーパーでは、厳密なリソグラフィ モデルをノンパラメトリック マスク操作に分解する新しい ML ベースのパラダイムを提案し、決定要因の光源、瞳孔、およびリソグラフィ情報を含む光学カーネルを学習しました。複素数値のニューラル フィールドを最適化して座標から光カーネル回帰を実行することにより、この方法は、パラメーターの少ない小規模なトレーニング データセットを使用してリソグラフィ システムを正確に復元でき、優れた一般化機能も実証できます。実験では、フレームワークがパラメーターの 31% を使用できる一方で、最先端技術よりも 1.3 倍高いスループットで 69 分の 1 の平均二乗誤差を達成できることが示されています。
Lithography is fundamental to integrated circuit fabrication, necessitating large computation overhead. The advancement of machine learning (ML)-based lithography models alleviates the trade-offs between manufacturing process expense and capability. However, all previous methods regard the lithography system as an image-to-image black box mapping, utilizing network parameters to learn by rote mappings from massive mask-to-aerial or mask-to-resist image pairs, resulting in poor generalization capability. In this paper, we propose a new ML-based paradigm disassembling the rigorous lithographic model into non-parametric mask operations and learned optical kernels containing determinant source, pupil, and lithography information. By optimizing complex-valued neural fields to perform optical kernel regression from coordinates, our method can accurately restore lithography system using a small-scale training dataset with fewer parameters, demonstrating superior generalization capability as well. Experiments show that our framework can use 31% of parameters while achieving 69× smaller mean squared error with 1.3× higher throughput than the state-of-the-art.