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SEMI-PointRend: レンダリングとしての改善された半導体ウェーハ欠陥の分類とセグメンテーション
SEMI-PointRend: Improved Semiconductor Wafer Defect Classification and Segmentation as Rendering
この研究では、PointRend (Point-based Rendering) メソッドを半導体欠陥セグメンテーションに適用しました。 PointRend は、コンピューター グラフィックスの画像レンダリングに着想を得た反復セグメンテーション アルゴリズムであり、高解像度のセグメンテーション マスクを生成できる新しい画像セグメンテーション方法です。また、Mask-RCNN などの共通インスタンス セグメンテーション メタアーキテクチャや FCN などのセマンティック メタアーキテクチャに柔軟に統合することもできます。 PointRend ニューラル ネットワーク モジュールを適用して正確なセグメンテーション マスクを生成するために、SEMI-PointRend と呼ばれるモデルを実装しました。このホワイト ペーパーでは、さまざまな欠陥タイプ (ライン崩壊、シングル ブリッジ、シン ブリッジ、マルチ ブリッジ非水平) について、SEMI-PointRend と Mask-RCNN の欠陥セグメンテーション予測を比較することに焦点を当てます。セグメンテーションの平均精度に関して、SEMI-PointRend が Mask R-CNN よりも最大 18.8% 優れていることを示します。
In this study, we applied the PointRend (Point-based Rendering) method to semiconductor defect segmentation. PointRend is an iterative segmentation algorithm inspired by image rendering in computer graphics, a new image segmentation method that can generate high-resolution segmentation masks. It can also be flexibly integrated into common instance segmentation meta-architecture such as Mask-RCNN and semantic meta-architecture such as FCN. We implemented a model, termed as SEMI-PointRend, to generate precise segmentation masks by applying the PointRend neural network module. In this paper, we focus on comparing the defect segmentation predictions of SEMI-PointRend and Mask-RCNN for various defect types (line-collapse, single bridge, thin bridge, multi bridge non-horizontal). We show that SEMI-PointRend can outperforms Mask R-CNN by up to 18.8% in terms of segmentation mean average precision.
updated: Sun Feb 19 2023 13:12:28 GMT+0000 (UTC)
published: Sun Feb 19 2023 13:12:28 GMT+0000 (UTC)
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