量子機械の分野では、シリコンチップ内の2次元(2D)材料の検出が最も重大な問題の1つです。インスタンスのセグメンテーションは、この問題を解決するための潜在的なアプローチと見なすことができます。ただし、他の深層学習方法と同様に、インスタンスのセグメンテーションには、かなりのパフォーマンスを達成するために、大規模なトレーニングデータセットと高品質のアノテーションが必要です。実際には、アノテーターは2K解像度などの大きな画像と、この問題で非常に密度の高いオブジェクトを処理する必要があるため、トレーニングデータセットの準備は困難です。この作業では、2D量子材料識別のインスタンスセグメンテーションで注釈が欠落している問題に取り組むための新しい方法を提示します。偽陰性オブジェクトを自動的に検出するための新しいメカニズムと、全体的な損失関数に寄与するこれらのオブジェクトの悪影響を減らすための注意ベースの損失戦略を提案します。 2D材料検出データセットで実験し、実験は、私たちの方法が以前の作業よりも優れていることを示しています。
In quantum machine field, detecting two-dimensional (2D) materials in Silicon chips is one of the most critical problems. Instance segmentation can be considered as a potential approach to solve this problem. However, similar to other deep learning methods, the instance segmentation requires a large scale training dataset and high quality annotation in order to achieve a considerable performance. In practice, preparing the training dataset is a challenge since annotators have to deal with a large image, e.g 2K resolution, and extremely dense objects in this problem. In this work, we present a novel method to tackle the problem of missing annotation in instance segmentation in 2D quantum material identification. We propose a new mechanism for automatically detecting false negative objects and an attention based loss strategy to reduce the negative impact of these objects contributing to the overall loss function. We experiment on the 2D material detection datasets, and the experiments show our method outperforms previous works.