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ディープリソグラフィーシミュレーターを最新の状態に保つ:グローバル-ローカル形状ベースのノベルティ検出とアクティブラーニング
Keeping Deep Lithography Simulators Updated: Global-Local Shape-Based Novelty Detection and Active Learning
学習ベースの事前シミュレーション(すなわち、レイアウトから製造へ)モデルは、ICレイアウトからその製造された回路への製造によって引き起こされる形状変形を予測するために提案されています。このようなモデルは通常、ペアワイズ学習によって駆動され、製造後のレイアウトパターンとその参照形状画像のトレーニングセットが含まれます。ただし、モデルのトレーニングと更新のためにすべてのレイアウトクリップの参照形状画像を収集するには、費用と時間がかかります。この問題に対処するために、事前トレーニングされた事前シミュレーションモデルでは十分に予測できない、新規の(見えない)レイアウトパターンを識別するための深層学習ベースのレイアウト新規性検出スキームを提案します。オートエンコーダと事前トレーニング済みの事前シミュレーションモデルの2つのサブネットワークを活用して、レイアウトの潜在的な新規性を評価するために、グローバルローカルの新規性スコアリングメカニズムを考案します。前者は、特定のレイアウトとトレーニングサンプル間のグローバルな構造の非類似性を特徴づけますが、後者は、製造によって誘発された局所的な変形を表す潜在コードを抽出します。自己注意メカニズムによってブーストされた局所的な変形とグローバルな非類似性を統合することにより、私たちのモデルは、テストサンプルのグラウンドトゥルース回路形状なしで新規性を正確に検出できます。検出されたノベルティに基づいて、さらに2つの能動学習戦略を提案し、グラウンドトゥルース回路の形状を取得するために作成するのに最も価値のある代表的なレイアウトの量を減らします。実験結果は、i)レイアウトの新規性の検出におけるメソッドの有効性、およびii)学習ベースのシミュレーション前モデルを最新の状態に保つための代表的な新規レイアウトを選択するアクティブラーニング戦略の能力を示しています。
Learning-based pre-simulation (i.e., layout-to-fabrication) models have been proposed to predict the fabrication-induced shape deformation from an IC layout to its fabricated circuit. Such models are usually driven by pairwise learning, involving a training set of layout patterns and their reference shape images after fabrication. However, it is expensive and time-consuming to collect the reference shape images of all layout clips for model training and updating. To address the problem, we propose a deep learning-based layout novelty detection scheme to identify novel (unseen) layout patterns, which cannot be well predicted by a pre-trained pre-simulation model. We devise a global-local novelty scoring mechanism to assess the potential novelty of a layout by exploiting two subnetworks: an autoencoder and a pretrained pre-simulation model. The former characterizes the global structural dissimilarity between a given layout and training samples, whereas the latter extracts a latent code representing the fabrication-induced local deformation. By integrating the global dissimilarity with the local deformation boosted by a self-attention mechanism, our model can accurately detect novelties without the ground-truth circuit shapes of test samples. Based on the detected novelties, we further propose two active-learning strategies to sample a reduced amount of representative layouts most worthy to be fabricated for acquiring their ground-truth circuit shapes. Experimental results demonstrate i) our method's effectiveness in layout novelty detection, and ii) our active-learning strategies' ability in selecting representative novel layouts for keeping a learning-based pre-simulation model updated.
updated: Mon Jan 24 2022 14:50:30 GMT+0000 (UTC)
published: Mon Jan 24 2022 14:50:30 GMT+0000 (UTC)
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